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產(chǎn)品展示/ Product display

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高速涂料二氧化硅分散機

高速涂料二氧化硅分散機有一定輸送能力,對高固含量有一定粘稠度物料,設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼。

  • 產(chǎn)品型號:GMD2000
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2026-04-07
  • 訪  問  量:1011
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詳細介紹

一、產(chǎn)品關(guān)鍵詞概述

高速涂料二氧化硅分散機,納米二氧化硅研磨分散機,納米二氧化硅分散機,納米研磨分散機,納米分散機,二氧化硅分散機,德國納米分散機,納米高速分散機

二、研磨分散機的結(jié)構(gòu)
納米二氧化硅分散在多個領(lǐng)域都有著重要的應用,如:改性樹脂,改性紡織材料,改性涂料,改性橡膠等等。改性的效果取決于分散的效果,粒徑越小分散越均勻,分散效果就越好。SGN高速涂料二氧化硅分散機
*的結(jié)構(gòu),全新的技術(shù),專業(yè)應對于納米級物料的分散,先研磨后分散,避免團聚,分散效果好。

對于納米的物料分散一直是人們關(guān)注的熱點,納米分散存在著難以解決的問題,納米物料分散到流體物質(zhì)當中容易形成二級團聚體,導致物料粒徑變大,難以分散。面對這種情況,SGN/思峻研發(fā)出新型設(shè)備-研磨分散機,應對納米物質(zhì)的分散問題。并有著廣泛的實例,如納米級白炭黑的分散,納米級石墨烯的分散,都在使用SGN/思峻研磨分散機進行分散處理,*。

三、研磨分散機的原理

GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SGN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)。

納米研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應用。

四、研磨分散機的工藝

GMD2000研磨機有一定輸送能力,對高固含量有一定粘稠度物料,GMD2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計,可通冷卻或者升溫介質(zhì)。


選型表:

研磨分散機

流量

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW


GMSD 2000/4

300

14,000

41

4

DN25/DN15

GMSD 2000/5

1500

10,500

41

11

DN40/DN32

GMSD 2000/10

4000

7,200

41

22

DN80/DN65

GMSD 2000/20

10000

4,900

41

45

DN80/DN65

GMSD 2000/30

20000

2,850

41

90

DN150/DN125

GMSD2000/50

60000

1,100

41

160

DN200/DN150

*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到最大允許量的10%。


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